Giá trị ứng dụng: từ cải thiện hiệu suất đến triển khai cảnh

Đột phá về hiệu suất sạc và xả tốc độ cao

Được sử dụng trong pin năng lượng sạc cực nhanh dành cho các phương tiện sử dụng năng lượng mới (nền tảng điện áp cao-800V), hỗ trợ sạc nhanh 10C (sạc đầy 15 phút) và phóng điện xung 20C (đáp ứng các yêu cầu về năng lượng tăng tốc nhanh). So với pin thu dòng lá đồng, thời gian sạc được rút ngắn 40% và công suất xả tăng 25%.

Thích ứng với pin lưu trữ năng lượng công nghiệp (chẳng hạn như nguồn điện dự phòng trung tâm dữ liệu và pin đạt đỉnh lưới), trong điều kiện sạc và xả tần số-cao 15C, tuổi thọ của chu kỳ pin tăng hơn 20% (tỷ lệ duy trì công suất Lớn hơn hoặc bằng 85% sau 500 chu kỳ).

Giảm chi phí và tăng hiệu quả về mặt sản xuất

Độ nhám bề mặt Ra Nhỏ hơn hoặc bằng 0,5μm giúp giảm các vấn đề rò rỉ lớp phủ và chênh lệch độ dày khi phủ bùn điện cực (chẳng hạn như bùn điện cực dương ba lớp, bùn điện cực âm dựa trên silicon-) và tỷ lệ sử dụng bùn tăng 5%-8%.

Thông số kỹ thuật siêu mỏng (0,03mm) có thể giảm tỷ lệ trọng lượng của bộ thu dòng điện (từ 12% lá đồng truyền thống xuống 8%), gián tiếp làm tăng mật độ năng lượng của pin khoảng 3-5Wh/kg.

Thông số sản phẩm

Tên sản phẩm	Tấm niken Ni200
Thành phần hóa học	Ni Lớn hơn hoặc bằng 99,6%
Chiều dài	Có thể tùy chỉnh
Chiều rộng	2mm-330mm
độ dày	0,03mm-0,1mm
Ra	Nhỏ hơn hoặc bằng 0,5 μm
Tỉ trọng	8,9g/cm³
Xử lý bề mặt	Đánh bóng/Chà nhám
Độ bền kéo	380-410MPa
Độ giãn dài	Lớn hơn hoặc bằng 40%

Ba ưu điểm kỹ thuật cốt lõi: Hỗ trợ những đột phá về hiệu suất-có tỷ lệ cao

Truyền tải trở kháng cực-thấp: giảm tổn thất dòng điện có tốc độ-cao

Ưu điểm về tính dẫn điện: Độ dẫn điện của tấm niken Ni200 đạt 143 S/m, cao hơn 39% so với lá đồng truyền thống (103 S/m) và cao hơn 19% so với hợp kim niken thông thường (Nhỏ hơn hoặc bằng 120 S/m), điều này có thể làm giảm đáng kể điện trở của chính bộ thu dòng điện.

Đặc điểm phân bố dòng điện: Ma trận niken có độ tinh khiết cao{0}}không có tạp chất (hàm lượng Fe và Cu nhỏ hơn hoặc bằng 0,1%), tránh các vùng điện trở vi- do tạp chất hình thành, cho phép dòng điện phân bố đều trên bề mặt của bộ thu dòng, giảm quá nhiệt cục bộ (chênh lệch nhiệt độ có thể được kiểm soát trong vòng 5 độ ở tốc độ cao) và tránh hư hỏng vật liệu hoạt động do nồng độ dòng điện.

Khả năng chống ăn mòn chất điện phân mạnh mẽ: đảm bảo-sự ổn định lâu dài của chu kỳ

Cơ chế bảo vệ tự thụ động-: Với sự hiện diện của muối lithium-cacbonat (chẳng hạn như LiPF₆-EC/DEC) và chất điện phân có nồng độ-cao (chẳng hạn như hệ thống điện áp cao-4,5V), tấm niken Ni200 có thể nhanh chóng tạo thành màng thụ động dày đặc 2-5nm (chủ yếu bao gồm NiO và Ni (OH)₂) trên bề mặt để ngăn chất điện phân hoạt động ăn mòn nền niken;

Xác minh dữ liệu chống ăn mòn: Trong điều kiện chu kỳ 60 độ, 10C, được ngâm trong chất điện phân 1mol/L LiPF₆-EC/EMC, tốc độ ăn mòn của tấm niken Ni200 chỉ 0,002mm/năm, thấp hơn nhiều so với lá đồng (0,015mm/năm) và thép không gỉ 304 (0,008mm/năm), có thể tránh được sự tăng đột ngột điện trở trong do ăn mòn bộ thu hiện tại (chu kỳ) 500 Tăng điện trở trong thứ cấp Nhỏ hơn hoặc bằng 8%).

Khả năng chống mỏi của kết cấu: thích ứng với ứng suất phóng điện và-tốc độ cao

Hỗ trợ hiệu suất cơ học: Tấm niken Ni200 có độ bền kéo Lớn hơn hoặc bằng 380MPa và độ giãn dài Lớn hơn hoặc bằng 40%. Nó có thể được xử lý thành bộ thu dòng siêu mỏng 0,03-0,1mm{7}}bằng cách cán nguội. Nó không dễ bị vỡ hoặc nhăn dưới ứng suất giãn nở/co rút điện cực được tạo ra bởi sự phóng điện và phóng điện tốc độ cao (chẳng hạn như phóng điện xung 20C);

Độ ổn định hàn: Thích hợp cho quá trình hàn laser và hàn siêu âm. Tỷ lệ duy trì độ bền kéo của mối hàn lớn hơn hoặc bằng 90%, đáp ứng các yêu cầu kết nối độ bền cao của tab pin và bộ thu dòng điện có tốc độ cao, đồng thời tránh gián đoạn truyền dòng điện do lỗi hàn.